Equipements
DRX
DRX MINIFLEX II
Source : Cuivre
Plage angulaire : 0 à 120 °
Méthode de quantification par affinement selon la méthode de Rietveld
Base de données ICDD / JCPD
MEB - EDX
Microscope Electronique à Balayage Environnemental (ESEM) couplée à une microsonde X dispersive en énergie (EDX)
Mode High-Vac et Low-Vac pour échantillon conducteur et isolant - Détecteur d'électrons secondaires et rétrodiffusés (contraste topographique et chimique) - Analyse chimique semi-quantitative EDX (mode pointé, cartographie, détection à partir du Bore)
ICP - MS
Spectromètre ICP MS équipé d’une DRC (Dynamic Reaction Cell)
Quadripôle, limite de détection jusqu'au ppt, système d'injection Teflon pour solution HF, rapport isotopique
ICP AES
Spectromètre d’émission atomique ICP AES Double Visée Axiale et Radiale
Système simultané, système d'injection Teflon pour solution HF, système d'injection pour matrice fortement chargée, analyse de solution organique
Spectro Etincelage
Spectromètre d'Emission Optique stationnaire (SEO) ou Spectromètre d'étincelage pour analyse des métaux
Base Fer, base Aluminium, base cuivre. Analyse de massif : surface supérieure à 1 cm2 et épaisseur supérieure à 0,5 mm
Analyseur élémentaire
Analyseur élémentaire C / S, N / O et H
Analyse C / S par combustion sèche et détection infrarouge, analyse N / O par thermoconductivité et détection infrarouge, analyse H par combustion et thermoconductivité
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Votre interlocuteur
Emmanuel BUIRET
emmanuelbuiret@filab.fr
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